| 18.02.2008 15:20 |
Mentor Graphics erzielt Durchbruch bei intelligenter Verifikation |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 18. Februar 2008 - Mentor Graphics Corporation kündigt mit Questa Multi-view Verification Components (MVC) und dem intelligenten Testbench-Automatisierungswerkzeug inFact zwei neue Lösungen an, die mit Hilfe wegweisender Technologien die Verifikation beschleunigen und die... |
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| 18.01.2008 11:00 |
Mentor Graphics und Calypto Design Systems bieten kundenerprobten ESL-Synthese- und Verifikations-Flow |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 18. Januar 2008 - Mentor Graphics Corporation kündigt die Verfügbarkeit eines neuen Electronic-System-Level- (ESL) Hardware-Design- und Verifikations-Flows an, der das Catapult-C-Synthesewerkzeug von Mentor mit dem Sequential-Equivalence-Checker (SLEC) von Calypto Design... |
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| 17.01.2008 11:00 |
Mentor Graphics startet 20. jährliches „PCB Technology Leadership Awards“-Programm |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 17. Januar 2008 – Mit der Ausschreibung für ihren 20. alljährlich stattfindenden Wettbewerb Technology Leadership Awards setzt die Mentor Graphics Corporation ihre bewährte Tradition fort, Spitzenleistung bei Leiterplattendesignern zu fördern und anzuerkennen. Von Mentor im ... |
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| 14.01.2008 15:45 |
Cadence und Mentor Graphics geben Verfügbarkeit der Open Verification Methodology bekannt |
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SAN JOSE, Calif., und WILSONVILLE, Oregon/USA, 14. Januar 2009 - Cadence Design Systems und Mentor Graphics geben die Verfügbarkeit der Open Verification Methodology (OVM) bekannt, die kürzlich vom Electronic Design Magazine mit dem "2007 BEST"-Award für EDA-Technologie ausgezeichnet wurde. ... |
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| 04.12.2007 11:30 |
Siemens IT Solutions and Services PSE verwendet funktionale Verifikations-Plattform Questa von Mentor Graphics |
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WILSONVILLE, Oregon/USA, 04. Dezember 2007 - Mentor Graphics kündigte an, dass das Chip-Design-Team von CES Design Services, ein Unternehmensbereich von Siemens IT Solutions and Services PSE, einen hoch entwickelten Verifikations-Flow implementiert hat, der auf Mentors funktionaler Questa... |
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| 22.11.2007 15:30 |
Mentor Graphics und TSMC bieten Design-Kit für 65-nm-HF-Technologien an |
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WILSONVILLE, Oregon/USA und HSINCHU, Taiwan, 22. November 2007 - Mentor Graphics und Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC) kündigen die Verfügbarkeit eines 65-nm-HF-Prozess-Design-Kits (PDK) an. Das Design-Kit kombiniert die neuesten 65-nm-Mixed-Signal- und HF-Prozesstechnologien von TSM... |
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