Presse-Informationen 307 bis 312 von 391
24.10.2008 12:45 Mentor Graphics Place-and-Route-System Olympus-SoC reduziert Design-Closure-Time durch industrieweit erste parallele Timing-Analyse- und Optimierungstechnologie
WILSONVILLE, Oregon/USA, 24. Oktober 2008 - Mentor Graphics bietet für sein Place-and-Route-System Olympus-SoC eine neue aufgabenorientierte Parallelisierungstechnologie, die durch paralleles Ausführen von Timing-Analyse und Optimierungsaufgaben die Design-Closure-Time erheblich reduziert. ...
10.10.2008 13:00 Mentor Graphics übernimmt Flomerics
WILSONVILLE, Oregon/USA, 10. Oktober 2008 - Mentor Graphics, der Markt- und Technologieführer bei Design-Automation- und Systemanalyselösungen, gibt die endgültige Übernahme der Flomerics Group PLC, einem führenden Anbieter von Produkten zur rechnergestützten Strömungsanalyse mit Sitz in...
10.10.2008 13:00 Mentor Graphics und AWR ermöglichen HF/Leiterplatten-Codesign ohne Datenkonvertierung
WILSONVILLE, Oregon/USA, 10. Oktober 2008 - Mentor Graphics, der Markt- und Technologieführer im Bereich Layoutsoftware für Leiterplatten (PCB), und AWR, der Innovationsführer bei Hochfrequenz-EDA, kündigen mit AWR Connected für Mentor Graphics einen neuen Designflow an, der die Datenkonvertierung...
26.09.2008 10:00 Mentor Graphics bietet Syntheseunterstützung für Virtex-5-TXT-FPGAs von Xilinx
WILSONVILLE, Oregon/USA, 26. September 2008 - Mentor Graphics unterstützt mit seinen Syntheseprodukten Precision RTL und Precision RTL Plus ab sofort die Virtex-5-TXT-FPGAs (Field Programmable Gate Arrays) von Xilinx. Die neue FPGA-Plattform ist für Anwendungen mit ultra hohen Bandbreiten optimiert ...
22.09.2008 12:40 Mentor Graphics und PTC bieten erste Lösung zur bidirektionalen Zusammenarbeit von ECAD-MCAD-Systemen
WILSONVILLE, Oregon/USA, 17. September 2008 – Mentor Graphics, der Markt- und Technologieführer im Bereich Layoutsoftware für Leiterplatten (PCB), ermöglicht mit dem „ECAD-MCAD Collaborator“ erstmals die Zusammenarbeit zwischen elektrischen (ECAD) und mechanischen (MCAD) Systemen. Das neue Produkt ...
22.09.2008 12:30 IBM und Mentor Graphics entwickeln computergestützte Lithografielösung für die 22-nm-Technologie
ARMONK, N.Y. und WILSONVILLE, Oregon/USA, 17. September 2008 – IBM und Mentor Graphics kündigen ein Abkommen zur gemeinsamen Entwicklung und Distribution von computergestützten Lithografiesoftwarelösungen der nächsten Generation an. Die neuen Lösungen werden die Abbildungsfähigkeiten von Lithografie...
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