Mentor-Graphics-Kunden erweitern Anwendungsspektrum des Calibre-Pattern-Matching-Tools zur Bewältigung hartnäckiger Probleme bei der Verifikation und Fertigung von ICs

Highlights: Kunden und Ökosystem-Partner erweitern das Anwendungsspektrum der Calibre-Pattern-Matching-Lösung, um komplexe Probleme bei der Verifikation und Fertigung von integrierten Schaltungen (IC) zu überwinden. Die Lösung umfasst alle Tools und Flows von Calibre und führt neue Anwendungen für die physikalische Verifikation, Design for Manufacturability (DFM), Steigerung der Ausbeute und Fehleranalyse durch. Diese Lösung ist bereits bei einer Vielzahl von IC-Designunternehmen, Prozesstechnologien und Foundries im Einsatz, einschließlich eSilicon, Samsung Foundry und SMIC. WILSONVILLE, Oregon/USA, 07. Juni 2016 – Mentor Graphics gibt bekannt, dass Kunden und Ökosystem-Partner das Anwendungsspektrum der Calibre-Pattern-Matching-Lösung erweitern, um bisher unlösbare Probleme bei der Verifikation und Fertigung von ICs zu überwinden. Diese Lösung ist die in Mentors Calibre nmPlatform integriert und schafft Synergien, die neue Anwendungen bei IC-Designunternehmen und Foundries über mehrere Prozessknoten unterstützen. Die Calibre-Pattern-Matching-Technoloige ergänzt multioperationelle textbasierte Designregeln um einen visuellen Prozess, der Geometrien automatisch erfasst und vergleicht. Dieser visuelle Ansatz bietet nicht nur eine hohe Leistungsfähigkeit bei der Erfassung komplexer Musterbeziehungen, sondern arbeitet auch in Flows mit unterschiedlichen Tools. Mentor-Kunden können damit leichter neue Anwendungen zur Lösung schwieriger Probleme erstellen. Da die Funktionalität von Calibre Pattern Matching im Toolset der Calibre nmPlatform integriert ist, nutzt sie die industrieführende Performance und Genauigkeit aller Calibre-Tools und -Flows, um neue Möglichkeiten zur Designregelprüfung (DRC), Zuverlässigkeitsprüfung, DFM, Steigerung der Ausbeute und Fehleranalyse zu schaffen. „Unsere Kunden verlassen sich darauf, dass ihnen die Designservices, IP und das Ökosystem-Management von eSilicon bei der erfolgreichen Bereitstellung marktführender ICs helfen“, sagt Deepak Sabharwal, General-Manager, IP Products & Services bei eSilicon. „Wir nutzen Calibre Pattern Matching zur Erstellung und Verwendung eines Calibre-basierten Yield-Detractor-Design-Kits, das Designmuster identifiziert und eliminiert, die sich auf die Produktionsanlaufzeit auswirken.“ Seit ihrer Einführung wurden die Anwendungsmodelle der Calibre-Pattern-Matching-Technologie rasch erweitert, um Probleme zu lösen, die davor zu komplex oder zeitaufwändig für die Implementierung waren. Zu den neuen Anwendungsfällen gehören: Die physikalische Verifikation von IC-Designs mit gekrümmten Strukturen – für analoge, Hochleistungs-, HF- und mikroelektromechanische (MEMS) Schaltungen – ist bei Produkten, die für das Arbeiten mit geradlinigen Konstruktionsdaten entworfen wurden, extrem schwierig. Calibre-Kunden automatisieren die Verifikation mit einer Kombination aus Calibre-Pattern-Matching-Technologie und anderen Calibre-Tools, um eine wesentlich höhere Effizienz und Genauigkeit zu erzielen. Dies gilt insbesondere im Vergleich zu manuellen Techniken. Die Calibre-Pattern-Matching-Technologie dient der schnellen Lokalisierung und Entfernung von Designmustern, die bekannt sind oder von denen vermutet wird, dass sie schwer zu fertigen sind (Yield Detractors). Foundries oder Designunternehmen erstellen Bibliotheken mit Yield-Detractor-Mustern, die für einen Prozessknoten oder eine bestimmte Designmethode spezifisch sind. Samsung Foundry verwendet diesen Ansatz in ihrer Closed-Loop-DFM-Lösung. Die Kunden können damit den Produktionsanlauf beschleunigen und Schwankungen im Prozessdesign verringern. Einige Anwender nutzen die Calibre-Pattern-Matching-Technologie mit Calibre-Auto-Waivers-Funktionalität zur die Definition eines speziellen Kontextes zur  Sonderfreigabe einer DRC-Verletzung. Diese Erweiterung ermöglicht die automatische Filterung dieser Verletzungen und sorgt somit für signifikante Zeitersparnis und verbesserte Designqualität. „Um unseren Kunden bei der Erstellung von fertigungsgerechten Designs zu helfen, richten wir mit Calibre Pattern Matching eine Yield-Detractor-Datenbank ein und korrigieren mit dem Tool die meisten Litho-Hotspots auf Blockebene. Dann führen wir mit Hilfe einer integrierten Lösung bestehend aus Calibre Pattern Matching und Calibre LFD eine schnelle Überprüfung der DFM-Lithographie auf Chipebene für das Signoff durch“, erklärt Min-Hwa Chi, Senior Vice President, SMIC. „Durch die Bereitstellung einer Lösung für robustes DFM, die auf der Calibre-Plattforn aufbaut, sehen wir bei den Kunden eine breite Akzeptanz für die DFM-Lösung von SMIC.“ „Mit dem Calibre-Pattern-Matching-Tool können Designunternehmen die physikalische Verifikation für ihren speziellen Designstil optimieren. Da das Tool keine Expertise in Skriptsprachen erfordert, lässt es sich einfach einsetzen. Jeder Ingenieur kann damit ein visuelles Muster definieren, dass das Know-how des Designers bei kritischen Geometrien und dem Kontext für diese Konfiguration erfasst. „Mit der zunehmenden Verbreitung der Calibre-Pattern-Matching-Technologie unterstützt Mentor seine Kunden bei der Bekämpfung der steigenden Designkomplexität und zwar unabhängig von den Prozessknoten, auf die sie abzielen“, kommentiert Joe Sawicki, Vice-President und General-Manager der Design-to-Silicon Division von Mentor Graphics. „Für das Ökosystem wird die Calibre-Plattform durch die Integration der Calibre-Pattern-Matching-Tools zu einer noch wertvolleren Brücke zwischen Design und Fertigung.“ Auf der 2016 Design Automation Conference präsentiert Mentor das Calibre-Pattern-Matching-Tool am Dienstag, den 7. Juni um 15.00 Uhr auf dem Mentor-Stand Nr. 949. Die Registrierung hierfür erfolgt mit Hilfe des Anmeldeformulars.

Über Mentor Graphics Mentor Graphics Corporation (Nasdaq: MENT) gehört zu den weltweit führenden Unternehmen, die Soft­ware- und Hardwarelösungen für die Entwicklung elektronischer Schaltungen anbieten. Zu Mentors Portfolio gehören Produkte, Beratungs- und Supportdienstleistungen, auf die die weltweit erfolgreichsten Elektronik- und Halbleiterhersteller vertrauen und dies mit der Verleihung zahlreicher Auszeichnungen an Mentor zum Ausdruck gebracht haben. Das 1981 gegründete Unternehmen erzielte im zurückliegenden Geschäftsjahr ei­nen Gesamtumsatz von etwa 1,18 Mrd. US-Dollar. Der Hauptsitz von Mentor Corporate befindet sich in den USA, 8005 S.W. Boeckman Road, Wilsonville, Oregon 97070-7777. Weitere Informationen unter: www.mentor.com (Mentor Graphics, Mentor und Calibre sind eingetragene Warenzeichen und Pattern Matching und Auto-Waivers sind Warenzeichen der Mentor Graphics Corporation. Alle übrigen Unternehmens- oder Produktnamen sind eingetragene Warenzeichen oder Warenzeichen ihrer jeweiligen Besitzer.)